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出版物
“光”をマスター！
Q&A付き
光学実務資料集
～各種応用展開を見据えて～
発刊・体裁・価格
→配布用ＰＤＦパンフレットを見る
発刊 2006年11月 定価 69,000円 + 税
体裁 B5判 559ページ ISBN 4-901677-62-4 詳細、申込方法はこちらを参照
 
◎反射・透過・吸収・偏光・屈折・散乱・干渉・配向・収差等、主な光学現象と用途ごとの光学設計ポイントを丁寧に解説！
◎設計段階における性能予測方法やランプ開発時の応力問題・干渉フィルタ製作時の留意点等、よく直面する問題への直接解答Ｑ＆Ａ付き！
●理想光学特性実現のための透明樹脂の分子設計・構造制御！
●偏光の伝播の計算方法！
●散乱現象についての詳細な解説！
●プリズムカプラ等を用いた屈折率測定・評価方法や複屈折低減化！
●有限/境界要素法やビーム伝搬法・光線追跡法などの解説とシミュレータ選定 での注意点！
●分光エリプソメトリー等や各種顕微鏡を用いた光学特性評価方法！
●非球面レンズにおけるレンズ枚数/配置/要求物性や各成型法の概要と方法ごとの注意点・評価方法！
●液晶用光学フィルムにおける色補償・広視野角化技術！
●LED・LDの光学特性やデバイス設計・高効率化！
●有機ELにおける光取出し効率の向上技術・光学設計のポイント！
●フォトマスクの種類と特性・波長と露光方式・露光特性！
●光導波路の設計・ポリマ導波路の開発動向！
●化粧品の光学設計ポイント・光学粉体の開発動向！
●微細構造を利用したフォトニック結晶！
⇒“光学”に慣れてない方にも、慣れている方にも、読み応えのある一冊！！
執筆者一覧（敬称略）
| ●谷尾 宣久(千歳科学技術大学) |
●藤本 健文((株)Philips Electronics Japan) |
| ●高橋 浩一(オリンパス(株)) |
●上坂 哲也(新日本石油(株)) |
| ●見勢 信猛(三菱化学(株)) |
●カランタル カリル(日本ライツ(株)) |
| ●北村 道夫(シンテック(株)) |
●波多腰 玄一(東芝リサーチ・コンサルティング(株)) |
| ●北村 恭司(オムロン(株)) |
●熊 均(出光興産(株)) |
| ●高橋 雅英(京都大学) |
●登山 伸人(大日本印刷(株)) |
| ●中村 彰一(大塚電子(株)) |
●疋田 真(NTTアドバンステクノロジ(株)) |
| ●北川 克一(東レエンジニアリング(株)) |
●佐藤 文孝((株)資生堂) |
| ●長谷川 雅樹(日本アイビーエム(株)) |
●熊澤 金也(日産自動車(株)) |
| ●橋本 信幸(シチズン時計(株)) |
●青柳 克信(東京工業大学) |
| ●白﨑 博公(玉川大学) |
●井上 振一郎((独)理化学研究所) |
| ●田所 利康((有)テクノ・シナジー)) |
●宮前 博(コニカミノルタオプト(株)) |
| ●阿部 勝行(オリンパス(株)) |
●新井 保則(新井光学システム研究所) |
| ●中澤 英子((株)日立ハイテクノロジーズ) |
●小野田 勝((独)産業技術総合研究所) |
| ●矢口 紀恵((株)日立ハイテクノロジーズ) |
●小松 正明(日本ゼオン(株)) |
| ●多持 隆一郎((株)日立ハイテクノロジーズ) |
●西田 和弘(セイコーエプソン(株)) |
| ●田村 耕一(東海光学(株)) |
●澤 俊行(広島大学) |
| ●笹谷 俊博((株)若狭光学研究所) |
●加瀬 征彦(広島大学) |
| ●吉住 恵一(松下電器産業(株)) |
●山岸 豊((株)堀場製作所) |
| ●松井 勉(船井電機(株)) |
●角屋 豊(広島大学) |
目次
<第1部 現象編>
第1章 理想光学特性実現のための透明樹脂の分子設計・構造制御
1. 高分子オプティクス
2. 屈折率制御
2.1 屈折率と分子構造
2.2 屈折率の制御
3. 高透明化
3.1 高透明化のための高次構造制御
3.2 高透明化のための分子設計
3.2.1 ポリマーの分子構造と光散乱損失
3.2.2 ポリマーの分子構造と光吸収損失
3.3.3 高透明化のための分子設計
4. 光学ポリマーのエイジング
4.1 高分子ガラスの構造緩和
4.2 光学ポリマーのエイジング
第2章 反射編
1. 反射鏡の基本的な使い方
1.1 反射の法則
1.2平面鏡、反射プリズムの使い方
1.2.1 平面鏡
1.2.2 反射プリズム
2. 反射光学系を用いた設計手法
2.1 パワーを持つ反射光学系を用いる理由
2.2 反射系と屈折系の違い
2.3 パワーを持つ反射面
2.4 代表的な反射光学系の紹介
3．偏心反射光学系
3.1 共軸光学系における偏心の影響
3.2 偏心収差とその補正
3.3 偏心収差補正効果の比較
4. 反射率測定
4.1 反射率と透過率
4.2 反射率測定器
第3章 吸収編～カーボンブラックを事例とした光の吸収～
1. 光の吸収、散乱、透過
2. カーボンブラックによる光の吸収
3. 反射と吸収
4. カーボンブラックの光吸収特性
5. 光吸収に影響するカーボンブラックの物性
6. カーボンブラックの分散と光吸収
7. 光吸収材料に適したカーボンブラック
第4章 偏光編
1. 平面波と偏光
2. いろいろな偏光
2.1 直線偏光
2.2 円偏光
2.3 楕円偏光
3. 偏光のあらわしかた
3.1 楕円をあらわすパラメータ
3.2 ストークスパラメータ
3.3 ポアンカレ球
4. 偏光のつたわりかた
4.1 偏光状態を変える媒質と変えない媒質
4.2 誘電率の異方性と誘電率テンソル
4.3 主軸誘電率による異方性の分類
4.3.1 主軸誘電率すべてが等しい場合
4.3.2 3つのうち2つが等しい場合
4.3.3 3つすべてが異なる場合
5. 誘電率が均一な1軸媒質中の偏光伝播
5.1 1軸媒質の誘電率テンソル
5.2 波動方程式と固有モード
5.3 4行4列伝播行列による定式化
5.3.1 4行4列伝播行列
5.3.2 4行4列行列による定式化の問題点
5.4 垂直入射偏光伝播の簡単な計算法
5.4.1 Jones行列による定式化
5.4.2 Jones 行列による定式化の問題点
5.5 偏光を制御する光学素子－波長板
6. 誘電率が一様でない媒質への応用
6.1 4行4列行列による方法
6.2 Jones行列による方法
第5章 屈折編
第1節 屈折率
1. 折率の基本関係式と屈折率を左右する要因
1.1 屈折率の基本関係式
2. ポリマーの屈折率に影響を及ぼす物性要因
2.1 分極率
2.2 分子屈折
2.3 分子容
2.4 まとめ
3. ポリマーの屈折率の変動要因
3.1 温度
3.2 圧力
3.3 吸湿
4. 屈折率の測定・評価方法
4.1 分光計
4.2 分光エリプソメーター
5. アッベ屈折率計
6. プリズムカプラ
第2節 複屈折
1. 複屈折率
2．複屈折の測定手法
2.1 残留複屈折測定
2.1.1 セナルモン法
2.1.2 アッベ屈折計
2.1.3 エリプソメトリー
2.1.4 プリズムカップリング
2.2 外部場印加による異常光屈折率解析
2.2.1 メーカーフリンジ(Maker-Fringe:MF)法
3. 複屈折と構造の関係
第6章 散乱編
1. メカニズムと理論
1.1 散乱発生のメカニズム
1.2 散乱理論
2. 光散乱の測定・評価方法
2.1 光散乱の測定
2.2 評価方法
2.3 解析例
第7章 干渉編
1. 干渉のしくみ
2. さまざまな干渉現象
2.1 等厚干渉縞(Interference of Equal Thickness)
2.1.1 ニュートン・リング(Newton’s Rings)
2.2 等傾角干渉縞(Interference of Equal Inclination)
2.2.1 ヤングの干渉縞
2.3 可干渉性(コヒーレンス Coherence)
3. 干渉計(Interferometer)
4. 干渉の応用(1) 光学素子
4.1 干渉フィルター
4.2 反射防止膜(ARコート；Anti-Reflection Coating)
4.3 回折格子(グレーティング；Diffraction Grating)
5. 干渉の応用(2) 計測
5.1 表面形状の測定
5.1.1 位相シフト法(PSI法：Phase-Shifting Interferometry)
5.1.2 垂直走査法(VSI法：Vertical Scanning Interferometry)
5.1.3 空間キャリア法(Spatial Carrier Method)
5.2 レーザー測長機(Displacement Measuring Interferometers)
5.3 膜厚の測定
5.4 光コヒーレンストモグラフィ(OCT; Optical Coherence Tomography)
5.5 その他の干渉応用計測
6. 干渉縞対策(アンチ・ニュートン)
7. モアレ(moire)
7.1 モアレの発生例と対策
7.2 モアレの利用
第8章 液晶の配向
1. 液晶と配向
2. LCDの表示方式と液晶配向
2.1 LCDの表示モードの分類
2.2 直接駆動
2.2.1 動的散乱モード(Dynamic Scattering Mode: DSMモード)
2.2.2 Twist Nematicモード(TNモード)
2.3 パッシブマトリックス駆動(PM駆動)
2.3.1 TNモード
2.3.2 スーパーツイストネマチックモード(STN)
2.4 アクティブ駆動
2.4.1 ツイストネマチックモード(TNモード）
2.4.2 垂直配向
2.4.3 水平配向
2.4.4 Pi セル, OCBモード(Optically Compensated Birefringence: OCBモード)
3. 配向処理
3.1 ラビング
3.2 光配向
3.3 イオンビーム配向
3.4 SiOの斜方蒸着
4. 液晶配向膜
4.1 水平配向膜
4.2 垂直配向膜
5. 配向機構
5.1 ラビングによる配向膜表面の変化
5.2 配向膜界面による配向
5.3 プレチルト角の発生機構
第9章 収差編
1. 光線収差と波面収差
2. 収差の分類と特徴
2.1 ザイデルの収差
2.2 ツェルニケの収差
2.3 ザイデル収差とツェルニケ収差の関係
3. 液晶による収差補正
3.1 素子構造
3.2 位相変調特性
4. 光ピックアップにおけるアクティブ収差補正
4.1 3次コマ収差補正
4.2 3次球面収差補正
5. 液晶可変焦点レンズ
5.1 分布屈折率型レンズ
5.2 量子化液晶分布屈折率型レンズ
第10章 光学シミュレーション編
1. 光学理論の分類
2. マクスウェル方程式の数値解法分類
2.1 マクスウェル方程式
2.2 数値解法の分類と注意点
2.2.1 偏微分の階数での分類
2.2.2 時間領域と周波数領域での分類
3. FDTD法
3.1 1次元自由空間でのFDTD定式化
3.2 FDTD解析計算での注意点
4. 有限要素法
4.1 差分法、有限要素法、境界要素法の各特徴と注意点
4.2 変分法
4.3 リッツ法とガラーキン法
4.4 重みつき残差法について
4.5 要素方程式と全体方程式
4.6 有限要素法解析計算での注意点
5.境界要素法
5.1 境界要素法の概要
5.2 境界要素法アルゴリズム
6. ビーム伝搬法
6.1 ビーム伝搬法の概要
6.2 ビーム伝搬法の基本式
6.3 ビーム伝搬法使用上の注意
7. 光線追跡法
7.1 光学設計
7.2 光線追跡の種類
7.3 光線行列
7.4 光線追跡による結像性能評価
8. RCWA法
8.1 周期構造回折格子からの散乱
8.2 RCWA法の概略
9. 並列計算法
9.1 PCグリッドコンピューティング
9.2 並列プログラミングのタイプ
9.3 並列プログラミング支援ツール
9.4 MPI
10. シミュレータ選定での注意点
10.1 シミュレータの構成
10.2 媒質の分類や解析構造による解析手法の選択
10.3 シミュレータ選定の基準
10.4 PCマシン選択の基準
10.5 シミュレーション手順
第11章 評価編
第1節 光学特性測定法
1. 光の伝播と光学特性測定
2. 薄膜の屈折率，膜厚決定
3. スペクトルフィッティング解析
4. 分光エリプソメトリーと分光干渉法
第2節 分光エリプソメトリー
1. エリプソメトリーの測定原理
2. なぜ分光なのか（物質と光の相互作用）
2.1 屈折率と誘電率
2.2 分極とスペクトル
2.3 誘電関数モデル
3. 偏光解析パラメーターの測定
3.1 測定法とその特性
3.2 測定誤差要因
4. 分光エリプソメトリーを用いた薄膜解析
4.1 測定解析の流れ
4.2 薄膜の光学定数決定
4.3 多層膜解析
第3節 顕微鏡
第1項 光学顕微鏡
1. 光学顕微鏡の基本構成
2. 拡大観察の原理と倍率
3. 分解能・焦点深度・明るさ
3.1 開口数(NA)
3.2 分解能
3.3 焦点深度
3.4 明るさ
4. 対物レンズ
4.1 対物レンズの概要
4.2 無限遠補正光学系と有限遠光学系
4.3 対物レンズその他諸元
5. 照明光学系
5.1 ケーラー照明
5.2 落射（反射照明）
6. 光学顕微鏡の観察例
第2項 電子顕微鏡
1. 透過形電子顕微鏡の基礎
1.1 透過形電子顕微鏡の原理
1.1.1 電子線の性質と発生
1.1.2 レンズ作用
1.1.3 TEM像の焦点
1.1.4 TEM像のコントラスト
1.1.5 非点収差
1.2 透過形電子顕微鏡の構造と作用
1.2.1 電子銃
1.2.2 照射系および結像系
1.2.3 試料室、観察室およびカメラ室
2. 材料の多層膜解析例
2.1 SEMによる多層膜断面の観察
2.1.1 多層膜のEDX分析における注意点
2.1.2 GaAs/AlGaAs超格子断面のZコントラスト像観察と高分解能EDXライン分析
2.1.3 巨大磁気記録膜（GMR）膜のEDX元素分布像観察
2.1.4 GaAs/AlAs超格子界面の高分解能観察
3. 極低加速電圧走査電子顕微鏡法について
3.1 リターディング観察手法
3.2 応用例
<第2部 応用編>
第12章 光学薄膜編
1. 光学薄膜のメカニズム
1.1 光の干渉
1.1.1 薄膜による干渉
1.1.2 厚膜の場合
2. 薄膜の性能
2.1 光学定数
2.2 膜構造
2.3 機械的性能
3. 設計・成膜手法
3.1 特性マトリクス
4. 多層膜設計法
4.1 反射防止膜
4.2 λ/4 積層型
4.3 等価膜
4.3.1 多層膜
4.3.2 最適化
4.3.3 斜入射特性
5. 生産バラツキ
6. 成膜プロセス
7. 解析・評価方法
第13章 光学レンズ編
第1節 非球面レンズ
1. 球面レンズのメカニズム～レンズの役割・枚数・配置・要求物性等～
1.1 非球面とは
1.2 非球面表示
1.2.1 回転対称な2次曲面
1.2.2 回転対称な非球面の一般的な表示
1.3 自由度
1.4 非球面レンズの種類
1.4.1 切削非球面レンズ
1.4.2 硝子モールド非球面
1.4.3 複合型非球面
1.4.4 プラスチックモールド非球面
1.5 非球面用材料
1.5.1 一般硝子
1.5.2 モールド用硝子
1.5.3 光学用プラスチック
1.5.4 光反応性樹脂
1.6 材料特性
1.6.1 比重
1.6.2 吸水性
1.6.3 転移温度（Tg）
1.6.4 熱的変化
2. 設計ポイント～ソフトを使う前の構想設計・通常の光学設計との相違～
2.1 構想設計
2.1.1 レンズ形式
2.1.2 レンズ枚数
2.1.3 非球面の使用
2.1.4 レンズ材料
2.2 設計の進め方
2.2.1 非球面の指定
2.2.2 設定次数
2.3 通常設計との相違
2.3.1 非球面使用目的
2.3.2 使用硝材の限定
3. 各成型法の概要と方法ごとの設計注意点・特徴
3.1 成型法の概要
3.1.1 硝子モールド非球面レンズ
3.1.2 複合型非球面レンズ
3.1.3 プラスチックモールド非球面レンズ
3.2 設計注意点・特徴
3.2.1 硝子モールド非球面レンズ
3.2.2 複合型非球面レンズ
3.2.3 プラスチックモールド非球面レンズ
第2節 非球面レンズの測定評価方法
1. 超高精度三次元測定機UA3P開発のきっかけ
2. 非球面レンズの種類と用途
3. 従来の測定技術と光プローブの問題点
4. 原子間力プローブ搭載、超高精度三次元測定機(非球面測定機)UA3Pを開発
4.1 原子間力プローブ
4.2 UA3Pの構成
4.3 ソフトウエア
4.4 UA3Pのトレーサビリテイー体系
5. 非球面レンズの測定例
6. 非球面レンズの傾きと偏心の測定
7. UA3Pの測定精度向上の取り組み
第3節 光ピックアップレンズ
1. 情報機器のレンズと光ディスク装置の光ピックアップレンズの比較
2. 光ピックアップの基本構成
3. 光ピックアップのレンズ
4. レンズの収差
5. レンズ評価
6. 光ディスクの複屈折に対する影響
第4節 光ピックアップの設計法と評価法
1. OPU業界の現状
2. OPUを取り込んだシステムの実例
3. OPUの種類と構造
4. OPUの実例
5. アクチュエータの設計例
6. OPUに関するサーボの要件
7. 光学系の設計例
8. 光学系部品としてのアクチュエータについて
9. 振動設計
10. 熱設計
11. 新しいOPUの制御法
12. 次々世代の光ディスクOPUの開発
第14章 液晶用光学フィルム編
1. 位相差フィルムの役割と種類
2. 液晶ディスプレイの光学補償技術による画質改善
2.1 STN方式向け色補償技術
2.2 TFT方式の広視野角化技術
第15章 機能性導光板とバックライト光学設計
1. 従来タイプバックライトの構造
1.1 バックライトの構造
1.2 導光板
2. 新しいバックライトの構造
3. 光学設計
3.1 微小偏向素子の設計
3.2 微小反射素子の設計
3.3 微小反射素子のグラデーションの設計
4. 結果
5. 結論
第16章 LED・LD編
1. LEDの光学特性とデバイス設計
1.1 LEDの効率
1.2 LED出射光の配光特性
1.3 LEDの高効率化技術
2. LDの光学特性とデバイス設計
2.1 LDにおける導波モードと近視野像、遠視野像
2.2 LDの非点収差
2.3 LDのビーム伝搬特性
第17章 有機EL編
1. 有機EL素子の発光機構
2. 光取出し効率の向上技術
3. 有機EL素子の光学設計のポイント
3.1概要
3.2 光取出し効率の計算方法
3.3 有機EL素子の光学設計上のポイント
4. 具体的な計算事例
4.1 Alq/NPD2層デバイスでの簡単な考察
4.2 ドーピング素子での理論値と実験値の検証例
4.3 発光位置の解析方法
4.4 トップエミッション素子の計算例
第18章 フォトマスク編
1. 結像系の中のフォトマスク
1.1 フォトマスクを用いる結像系
1.2 微細化のための露光系の変遷
1.3 プロキシミティ露光系での解像力
1.4 投影露光系による解像力
1.4.1 回折光と解像力
1.4.2 照明系と解像力
2. フォトマスク基材とフォトマスクの構造
2.1 合成石英材
2.2 フォトマスクの種類と構造
2.3 クロムマスク
2.4 位相シフトマスク
2.4.1 レベンソン型位相シフトマスク
2.4.2 ハーフトーン型位相シフトマスク
2.5 フォトマスク製造フロー
3. フォトマスクの加工と評価
3.1 加工スペックの変遷
3.2 パターニング
3.2.1 電子線描画装置とレーザ描画装置によるパターニング
3.2.2 クロムエッチング
3.2.3 合成石英エッチング
3.2.4 アライメント加工
4. 今後の基材特性課題
第19章 光通信用部品編
1. 光導波路の設計と接続損失
1.1 シングルモードファイバ用導波路の接続損失
1.1.1 コア形状の整合
1.1.2 屈折率の一致
1.1.3 屈折率差の一致
1.2 マルチモード(MM)ファイバ用導波路の接続損失
2. 導波路の評価
2.1 導波路挿入損失
2.2 ポリマ導波路の吸収損失
2.3 導波路の散乱損失
2.4 屈折率測定
3. ポリマ導波路の開発動向
3.1 ポリマ導波路作製法の開発動向
3.2 ポリマ導波路の信頼性
3.3 ポリマ導波路用コネクタの開発
第20章 化粧品編
1. 化粧品における光学設計
1.1 自然な肌質感
1.2 欠点補正
2. 最近のメーキャップ化粧品用光学粉体の開発動向
2.1 光拡散効果に優れる素材開発
2.1.1 バタフライ状硫酸バリウム
2.1.2 線状光拡散効果の高い繊維素材
2.2 異なる素材を複合化した光学粉末の開発
2.2.1 微粒子球状アクリル樹脂被覆雲母チタン
2.2.2 板状硫酸バリウム被覆雲母チタン
2.3 ポイントメーキャップ用素材
2.3.1 前方散乱性、透明性の高い白色顔料
2.3.2 構造色を利用したポイントメーク用素材
第21章 構造色の発色メカニズムと応用開発事例
1. 構造色が注目される理由
2. 構造色の発色基本メカニズムとその代表事例
2.1 散乱現象
2.2 干渉現象
2.3 回折現象
2.4 屈折（分散）現象
3. 構造色の代表 モルフォ蝶翅の発色基本メカニズム
3.1 モルフォ蝶翅内含有色素
3.2 モルフォ蝶翅の鱗粉微細構造
3.3 鱗粉の単純光学モデルと分光特性
3.4 蝶翅の3次元分光特性
4. 構造色を利用した応用開発事例
4.1 構造発色繊維モルフォテックス
4.2 その他の応用事例
5. 構造色の将来展望
第22章光学結晶編
1. 微細構造を利用したフォトニック結晶
2. フォトニック結晶の応用と将来展望
第23章 よくあるQ＆A編
第1節 回折光学素子の回折角はどのように決まるか？
1. 回折格子による光の回折
2. ブレーズ型回折光学素子
3. 回折光学素子の分散特性
4. 波長変化に伴う回折効率の補償
第2節 光学設計段階における性能予測方法
1. 設計性能
1.1 解像度,MTF
1.2 周辺光量
1.3 歪曲収差
2. 生産性能
2.1 誤差感度の定量化
2.2 収差変化表での評価すべき収差
2.2.1 近軸量
2.2.2 軸上性能(中心付近の収差変化)
2.2.3 軸外性能(周辺部の収差変化)
2.2.4 収差変化表とMTF変化表
2.3 誤差要因と加工レベル
2.4 公差の設定, 生産性能予測
2.4.1 設計性能､仕様からMTF下限値-収差変化量許容値を決める
2.4.2 対称誤差公差設定
2.4.3 非対称誤差公差設定
第3節 界面が明確でない(屈折率が連続的に変化する)場合の透過光・反射光はどうなるのか？
1. 透過光・反射光の強度（誘電率が一方向に単調に変化する場合
2. 透過光・反射光の偏光状態（誘電率が一方向に単調に変化する場合
3. 屈折率が緩やかに変化する媒質中を伝播する光の一般論
第4節 透明基板上の金属単層膜の屈折率及び消衰係数の求め方は？
1. 金属膜の厚さと光学特性
2. 金属膜のn，kと光の侵入深さd p
3. 銀薄膜の光学定数測定
第5節 樹脂の光学特性はどのような方法で測定するのが適切か(屈折率・アッベ数等)
1．屈折計
2．精度の高い屈折率を得るためのポイント
3．屈折率と光学特性
4．成形品内部の屈折率分布（密度分布）
5．屈折率分布（密度分布）について
6. 屈折率分布の光学レンズへ及ぼす影響
7．成形品の場所による屈折率-1(金型厚み方向の屈折率分布)
8．成形品の場所による屈折率-2(ゲート／反ゲート方向)
9．吸水性と屈折率分布
10．屈折率測定装置の将来
第6節 Berremanの4×4行列法と本書第4章の4×4行列法との相違
第7節 プロジェクターの光利用効率向上のためには？
1. 概論
2. 照明光学系
2.1 Etendue変換の高効率化
2.2 照明マージン量
2.3 偏光変換
3. 投写光学系
3.1 大口径レンズ
4. 光源
4.1ランプの短アーク化
4.2 リフレクター
4.3 スペクトル
4.4 指向性
5. 液晶パネル
5.1 サイズ
5.2 高開口率化
5.3 マイクロレンズアレイ(MLA)
5.4 許容角度の増大
6. その他の光学部品
6.1 透過率
6.2 分光特性(カット特性)
第8節 ランプ開発時の応力の問題
1. ガラスひずみ計について
2. ランプ破壊に影響を及ぼす因子
2.1 内圧が破壊に及ぼす影響
2.1.1 バルブ部
2.1.2 封止部
2.2 温度分布が破壊に及ぼす影響
2.2.1 バルブ
2.2.2 封止部
第9節 赤外線領域の干渉フィルタ製作時の留意点
1. 基板材料選定
2. 薄膜材料選定
3. 蒸着法の違いによる蒸着材料の屈折率
4. 多層膜設計上の留意点
5. 真空蒸着装置の準備
6. 蒸着基板ホルダー
7. 真空蒸着の実施
7.1 基板の前処理
7.2 真空槽内での基板洗浄
7.3 蒸着材料の加熱
7.4 蒸着膜厚の制御
7.5 膜厚分布
8. 蒸着後の処理
第10節 量子光学でしか扱えない現象及び今後の展望とは
1. 量子光学
2. 量子性が現れる現象の例
2.1 自然放出とその制御
2.2 スクイーズド光
2.3 光子：重ねあわせ状態と干渉
2.4 エンタングルメント(量子もつれあい状態)
3. 今後の展望
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番号：BB061101
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