セミナー・通信教育
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【2024年3月】
3月27日 | 半導体製造における洗浄技術・汚染制御 |
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講師 オフィスシラミズ 白水 好美 先生 ★各種洗浄液・洗浄プロセスの特徴・メカニズムから乾燥技術まで、半導体洗浄の基礎知識を習得! ★最近の超微細構造化・半導体製造プロセスの革新に対応する洗浄技術とは? ★クリーンルーム管理やエアワシャ技術、パーティクル対策等のクリーン化技術についても解説します! |
【2024年4月】
4月11日 | レジスト・微細加工用材料の基礎・要求特性と最先端技術 〜基本のおさらいから、EUVリソグラフィ等の最新技術動向と課題まで〜 |
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講師 大阪大学 遠藤 政孝 先生 ※元・パナソニック株式会社 ○高集積化などの変革に応じ研究開発続く、レジスト・微細加工用材料の市場・技術の全体像と今後の展望が掴めます! |
4月17日 | 薄膜形成における化学気相堆積(CVD)法と原子層堆積(ALD)法の基礎 〜化学反応の観察・測定例からプロセスの最適化へ向けて |
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講師:反応装置工学ラボラトリ 代表 羽深 等 先生 〇CVD法とALD法の初歩から始め、装置とプロセスの特徴、副生成物を減らす方法、クリーニングのための化学反応の設計、装置構成材料の耐腐食性、などについて幅広く解説します。 〇半導体炭化ケイ素(SiC)のCVD装置をクリーニングする技術の開発状況についても詳しく紹介します 〇半導体分野に限らず気相と表面の化学反応を扱う装置、高腐食性ガスと耐腐食性材料を扱う先端プロセスの設計・開発・管理に役立ちます。 |
4月18日 | トライボロジー(摩擦、摩耗、潤滑)の基礎と耐摩耗対策・摩擦制御法 |
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講師:安藤技術士事務所 所長 安藤 克己 先生 ●基礎編で、トライボロジーの基礎となる摩擦、摩耗、潤滑のメカニズムをわかりやすく解説! ●応用編で、材料技術(材料を利用する技術)と表面技術(表面に機能を付加する技術)、摩擦摩耗特性の評価・解析法について、実務に役立つと思われる内容を厳選! |
4月22日 | 半導体洗浄技術の基礎から先端半導体向け洗浄・乾燥技術のトレンドまで |
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講師 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 岩畑 翔太 先生 ○半導体洗浄の原理や装置・薬液の種類などの基礎から、次世代半導体の洗浄課題とそれに対応するための洗浄・乾燥技術のトレンドまで。 ○基本から先端技術までを3時間で解説します! |
4月25日 | 生体温度域でのスパッタリング成膜技術の基礎とその応用展開 |
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講師:産業技術総合研究所 センシングシステム研究センター 主任研究員 本村 大成 先生 |
【2024年5月】
5月22日 | 半導体の製造工程入門 〜前工程から後工程まで、最新技術を踏まえ徹底解説〜 |
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講師 (株)ISTL 礒部 晶 先生 ★一連の半導体製造フロー解説及び、それぞれのプロセスの種類・原理や用いられる装置・材料等について要点・問題点などを解説! ★FinFETや3DNAND、FOWLP、SiP等近年の半導体技術についても言及、それらの技術・方式が各製造工程に与える影響とは? |
5月23日 | 初めての半導体パッケージ樹脂封止・材料技術 |
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講師 (株)アイパック 越部 茂 先生 ★半導体の性能に大きな影響を及ぼす、半導体封止材の基礎知識・必要知識を1日で習得できます! |
5月24日 | 〈速習セミナー〉ALDプロセスの基礎と応用展開 〜ALD用原料開発と最新情報〜 |
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講師 気相成長株式会社 町田英明先生 ALD技術の速習セミナーです。 近年盛んな低温ALDや、今後の発展が期待されるALE(Atomic Layer Etching)、また、ALDの逆工程の応用についても解説します。 |
5月29日 | <基礎から学ぶ> レジスト材料とリソグラフィ技術 |
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講師 鴨志田技術事務所 鴨志田洋一先生 〜レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた技術革新、今後の展望および日本の半導体産業再生に向けて〜 |
5月31日 | 半導体メモリ技術の基礎と各種動向 〜デバイス動作原理・構造・製造プロセスフロー、技術課題および市場動向〜 |
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講師 (株)日立ハイテク 松崎 望 先生 ★増大一途のデータ量および半導体微細化の厳しい実状をふまえ、半導体メモリ技術は今後どのように進展するのか? DRAM・NANDフラッシュ等各種メモリの特徴・製造プロセスや市場・研究動向、課題等の基本事項・現状などをふまえ、今後の行方まで、多面的かつ平易に解説します! |
【2024年6月】
6月18日 | <鉄や銅・リチウムなど"重要鉱物"を扱う企業必見> EU・中国(など主要各国)における重要鉱物獲得に関する法令動向 〜EU重要原材料法等により想定される企業への影響〜 |
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講師 デロイト トーマツ ファイナンシャルアドバイザリー合同会社 平木 綾香 氏 ★自動車や電子機器の製造に用いられる【鉄・銅・リチウム・コバルト等】の多くの鉱物が"重要鉱物資源"と呼ばれ、これらの獲得競争が激化しています ★EUでも「重要原材料法案」が発効されるなど、各国の政策動向に注意しておく必要があります ★各企業は何を見て、どこから情報を得るべきか? |
過去開催したセミナー例
- 半導体製造における洗浄技術・汚染制御
- スパッタリングの基礎から品質向上のポイント、トラブル対策
- 真空蒸着薄膜技術の基礎原理・ノウハウ・トラブル対応
- 真空システムにおけるトラブル事例と解決策
- 先端半導体パッケージングの技術トレンド
- 初めての半導体パッケージング封止樹脂材料技術
- 半導体封止材の設計とトラブル要因、その対策
- リソグラフィー技術の基礎とフォトレジストの評価方法
- エッチングの基礎と最新技術
- 半導体ドライエッチング技術:基礎から最先端応用まで
- 半導体CMP技術の基礎と応用工程の実際
- 研磨加工技術:基礎・理論から最新動向まで
※こちらへ記載したもの以外にも、情報機構では様々なテーマのセミナー・書籍・eラーニングを企画しています。
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