カラーフィルタ 顔料分散

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出版物

★最新動向をふまえ、代表的な質問へ対応!

カラーフィルタ最新技術動向
〜構成材料・製造・評価・海外動向〜

発刊・体裁・価格

発刊  2005年5月  定価  69,000円 + 税
体裁  B5判 269ページ  ISBN 4-901677-42-X  詳細、申込方法はこちらを参照

→配布用PDFパンフレットを見る

 



★顔料分散レジスト、ブラックレジスト、フォトスペーサー!
★超微粒子顔料分散体!
★インクジェット法、転写法による製造技術を解説!
★韓国、台湾の動向をチェック!
★高精細化、色再現性技術!

執筆者

久保田泰生 東レ(株) 電子情報材料研究所 研究員
吉岡 正裕 東レ(株) 電子情報材料研究所 主任研究員 工学博士
勝部 浩史 大日本インキ化学工業(株) 鹿島工場 顔料技術グループ 主任研究員
木内 栄一 大日本インキ化学工業(株) 鹿島工場 顔料技術グループ 研究主任
久 英之  御国色素(株) 専務取締役
日口 洋  日口コンサルタンツ 代表者
長塚 富雄 JSR(株) ディスプレイ研究所 LCD材料開発室 主任研究員
内河喜代司 東京応化工業(株) 開発本部 先端材料開発2部 課長
Youlee Pae ADMS TECH Co.,Ltd. DevelopmentTeam 課長 Ph.D.
内海健太郎 東ソー(株) 東京研究所 主任研究員
赤平 誠  キヤノン(株) 記録技術研究所 記録技術第1研究部 部長
古川 忠宏 共同印刷(株) 基盤技術開発部 担当課長
浜口 正良 東レエンジニアリング(株) TSコータ事業部 技術部 部長
吉崎 教裕 キヤノン販売(株) 表示体露光装置営業部 課長
藤井 敏夫 テクノス(株) 光計測システム部 グループリーダー
久保田 弘 熊本大学 衝撃・極限環境研究センター 教授 理学博士
大嶋 浩正 大塚電子(株) 開発生産本部 開発2部 部長
船戸 正好 大塚電子(株) 開発生産部部 本部長
日口 洋一 大日本印刷(株) ディスプレイ製品事業部 ディスプレイ製品研究所
      エキスパート 工学博士
大谷 薫明 富士写真フイルム(株) デジタル&フォトイメージング材料研究所 主任研究員
山田 文明 日本アイ・ビー・エム(株) 東京基礎研究所 副主管研究員 理学博士
村田 雅巳 セイコーエプソン(株) 映像機器事業部 VD開発部 VD開発グループ 課長
米田 清  山形県産業技術振興機構 有機エレクトロニクス研究所 副所長 工学博士
坪井 當昌 ADMS TECH Co.,Ltd. 日本駐在 常務執行役

目次

第1章 カラーフィルターの概要
はじめに
1.カラーフィルターの構成と役割
2.カラーフィルター製造方法
3.カラーフィルター用材料
 3.1 ブラックマトリクス(BM)
 3.2 RGB画素
 3.3 その他
4.カラーフィルター最新技術
 4.1 モバイル用ライトホール型カラーフィルター
 4.2 モニター・テレビ用超高色再現性(NTSC色)カラーフィルター
 4.3 スリットコーター塗布技術
おわりに

第2章 カラーフィルタ・ブラックマトリクス用顔料の種類と性質及び要求品質

第1節 カラーフィルター用顔料の種類と要求品質
1.カラーフィルター用顔料
  (1) 赤色顔料(RED)
  (2) 青色顔料(BLUE)
  (3) 緑色顔料(GREEN)
2.カラーフィルター用顔料の要求品質
 2.1 顔料の小粒径化
 2.2 顔料表面エネルギーの制御技術

第2節 カーボンブラック
はじめに
1.カーボンブラックの基礎的性質
 1.1 CB粒子の微細構造
 1.2 粒子径とその分布
 1.3 比表面積と非多孔比表面積
 1.4 粒子の凝集体(ストラクチャー)
 1.5 化学的性質
2.遮光層(BM)について
 2.1 金属クロム系
 2.2 チタンブラック系樹脂BM
 2.3 樹脂BM用CB
  2.3.1 Cr代替CB(一般には低抵抗)
  2.3.2 高抵抗CB
おわりに

第3節 カラーフィルターにおける超微粒子顔料分散体
1.主要要求性能およびその理論的背景
 1.1 分光特性
 1.2 高彩度
 1.3 高透明性
 1.4 高耐光性、耐熱性、耐溶剤性
 1.5 パターニング方法に対する適合性
 1.6 超微粒子分散体(着色レジスト、各種印刷インキ)に対する分散安定性
2.ミルベースの設計と必要な材料
 2.1 ミルベースの構成
 2.2 超微粒子顔料
 2.3 高吸着型高分子分散剤9)10)
 2.4 溶剤
3.超微粒子分散技術
 3.1 前処理技術
 3.2 適応分散機器の選択 
 3.3 超微粒子分散における運転条件  
  3.3.1 マイクロメディア採用に依る超微粒子分散
  3.3.2 マルチパス分散の有効性
4.超微粒子分散体の評価方法
 4.1 超微粒子分散体の評価方法
  4.1.1 顔料分散液
 4.2 粒度測定の適正化
 4.3 超微粒子領域の粒度測定
 4.4 測定試料の標準化
   (1) 試料のサンプリング
   (2) 測定サンプル中の粒子濃度
   (3) 希釈溶媒
   (4) 希釈手順
   (5) 粒度情報の解析手法
   (6) その他測定粒度の表示への提言

第3章 カラーフィルタ用レジストの最新動向

第1節 カラー分散レジスト
はじめに
1.顔料の特徴
2.顔料分散技術
3.顔料分散レジストの特徴と材料設計
 3.1 顔料分散レジストの特徴
  3.1.1 顔料分散レジストの一般的な構成成分
  3.1.2 顔料分散レジストの光反応機構と硬化挙動
 3.2 顔料分散レジストに要求される性能
  3.2.1 塗布性
  3.2.2 色特性
  3.2.3 現像特性
  3.2.4 表面粗度
  3.2.5 信頼性
 3.3 COAカラーフィルターオンアレイ用顔料分散レジスト
 3.4 顔料分散レジストの今後の動向
   (1) 省液化・省プロセス化など
   (2) 色特性向上

第2節 ブラックレジスト
はじめに
1.ブラックレジストのパターニング特性
 1.1 レジストの種類
 1.2 ブラックレジストの高感度化
 1.3 ブラックレジストの解像力
2.ブラックレジストのOD値向上
 2.1 カーボンブラックの構造
 2.2 カーボンブラックの分散安定化
3.ブラックレジストの塗布特性
 3.1 スピンコーティング
 3.2 ノンスピンコーティング
おわりに

第3節 フォトスペーサーの最近の傾向
はじめに
1.技術潮流
2.フォトスペーサーの弾性的な性質
 2.1 フォトスペーサーの工程
 2.2 テスト方法と弾性的性質の解析
 2.3 弾性的性質をコントロールするアプローチ
結論

第4節 透明電極(ITO)の最新動向
はじめに
1.ITO薄膜中のSnO2量
2.ITO薄膜の膜厚
3.ノジュールとアーキングとパーティクルの関係
 3.1 ノジュール形成メカニズム
 3.2 ITO焼結体の高密度化
 3.3 Snの均一分散
 3.4 ターゲットの被スパッタリング面の表面粗さの低下

第4章 カラーフィルタ製造法

第1節 インクジェット法による光学カラーフィルターへの応用
はじめに
1.インクジェット法のメリット
2.キヤノンにおける実施例
 2.1 受容層方式
 2.2 直接描画方式
3.各要素に求められる特性
 3.1 インクに求められる特性
  3.1.1 状態安定性
  3.1.2 吐出安定性
  3.1.3 印字物品位
 3.2 ヘッドに求められる特性
  3.2.1 着弾精度
  3.2.2 吐出安定性
 3.3 基板に求められる性能
  3.3.1 BMテーパー角影響
  3.3.2 BM高さ影響
 3.4 描画プロセスに求められる性能
おわりに

第2節 転写法によるプラスチックフィルムカラーフィルタ
はじめに
1.カラーフィルタとは
2.転写法によるプラスチックフィルムカラーフィルタの製造方法1)2)
3.カラーフィルタに要求される特性およびプラスチックフィルムカラーフィルタの特性
 3.1 耐光性
 3.2 耐熱性
 3.3 耐薬品性
 3.4 ガスバリアー性
 3.5 表面形状
 3.6 プラスチックフィルムカラーフィルタの特性
4.プラスチックフィルムカラーフィルタの今後の課題
 4.1 EL用
 4.2 液晶用

第5章 製造装置

第1節 塗布装置最新技術動向
はじめに
1.スリットノズルコータ方式の開発と量産化の歴史
2.スリットノズルコータ方式の塗布原理
3.スリットノズルコータ(TSC)
 3.1 X−Zガントリー
 3.2 口金
 3.3 塗布材料供給装置(ポンプ)
 3.4 初期化装置
4.塗布プロセス技術
5.塗布材料の条件
6.G7、G8のスリットノズルコータ塗布技術
 6.1 大型化対応の課題 
 6.2 ステージ
 6.3 ガントリー
 6.4 口金
7.G8サイズへの対応
8.まとめ

第2節 液晶ディスプレイ用露光装置
1.背景
 1.1 はじめに
 1.2 露光方式の種類
2.開発動向
3.要素技術
4.装置の構成
5.第7世代露光装置の特長
 5.1 最大級の基板サイズ
 5.2 48型ワイドまでの一括露光
 5.3 高スループット
 5.4 マスクコストの削減
 5.5 安定した解像力
6.カラーフィルター用露光装置の特長
 6.1 高スループット
 6.2 高オーバーレイ精度
7.概略仕様
8.今後の方向
 8.1 装置コスト上昇の懸念点
 8.2 運搬、設置の懸念点

第3節 大型基板用高速膜厚ムラ検査装置
はじめに
1.背景
2.装置仕様
3.測定原理
4.測定例
5.本装置導入のポイント
おわりに

第6章 測定・評価法

第1節 カラーフィルタの測定方法
1.分光透過スペクトルの測定
 1.1 分光光度計
 1.2 光源
 1.3 リファレンス
2.カラーフィルタ測定の光学系
 2.1 光ファイバ
 2.2 マクロ光学系
 2.3 ミクロ光学系
3 試料ステージ
4 分光透過スペクトル

第2節 カラーフィルタの評価法
はじめに
1.製造過程での評価
 1.1 OC、PS(CS)、MVA、ITO膜
  1.1.1 分光干渉法とは
  1.1.2 干渉波形からの膜厚演算
   1.1.2.1 ピークバレイ法
   1.1.2.2 カーブフィッティング法
   1.1.2.3 周波数解析法(FFT)
 1.2 BM膜
 1.3 カラーレジスト(RGB)膜の膜厚
  1.3.1 CFのOD法を利用した膜厚測定
  1.3.2 CFの分光干渉法を利用した膜厚測定
  1.3.3 カラーレジスト(RGB)膜の色度
  1.3.4 カラーレジスト(RGB)膜とBM膜の画素幅
 1.4 仕上げのムラ検査

第7章 カラーフィルタ最新技術

第1節 カラーフィルターの高精細化と色再現性
1.CFの形態と機能化に対する要求の変化
2.CFの高機能付与のための技術
 @MVA
 AIPS
 BOCB
 Cフォトスペーサスペーサ(パールレスCF)
 DCOA
3.CFの色要求性能とその材料開発状況
 @R画素形成用顔料(赤顔料)
 AG画素形成用顔料(緑顔料)
 BB画素形成用顔料(青顔料)
 C補正色用顔料
4.CFの色再現性(色の最適化)
5.ヒューマンインターフェイスとしてのCFのあり方

第2節 転写法による大型基板化可能なカラーフィルター作製技術
はじめに
1.トランサーシステムの概要
 1.1 トランサーフィルムの層構成
 1.2 トランサーによるカラーフィルター作製プロセス
 1.3 クッション層の働き
 1.4 酸素バリア層の働き
2.トランサーシステムによるフォトスペーサーの作製
3.基板の大型化への対応
まとめ

第3節 バックライト光源とカラーフィルターの相互作用
はじめに
1.色再現性
2.新たな光源
3.カラーフィルターとバックライト光源

第4節 3LCD方式による色再現技術・明るさの向上技術
はじめに
1.3LCD方式の色再現技術
2.3LCD方式の明るさの向上技術
 2.1 MLA
 2.2 Dテクノロジー
 2.3 E−TORL
3.今後の技術展望

第5節 有機ELディスプレイ 
1.有機ELディスプレイの特徴
2.有機ELディスプレイ技術の最近の動向
3.有機ELの製造工程
4.有機ELディスプレイのカラー化技術
5.WOLED+CF方式によるフルカラー有機ELディスプレイ
6.WOLED+CFフルカラーディスプレイの低消費電力化
7.まとめ

第8章 海外動向

第1節 韓国の動向
1.韓国でのLCD用レジスト材料の開発の歴史
2.韓国メーカーのカラーフィルタ材料への取り組み
3.日本レジストメーカーの韓国への進出
4.今後の韓国レジストメーカーの動向

第2節 台湾におけるTFT用カラーフィルター市場動向
1.台湾におけるTFT市場について
2.カラーフィルターの外販市場と内作ライン
3.カラーフィルターの課題
 3.1 需給バランス
 3.2 今後の課題

番号:BB050501

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